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等離子噴涂工藝通常在正常大氣壓下進(jìn)行，因此被稱為常壓等離子噴涂。此外，在處理那些對(duì)氧化極為敏感的材料時(shí)，該工藝也可以在真空室中進(jìn)行，此時(shí)稱為真空等離子噴涂或低壓等離子噴涂。在真空等離子噴涂過程中，首先需要將真空室抽至約10^-2毫巴甚至10^-3毫巴的真空狀態(tài)，以去除其中殘留的氣體雜質(zhì)；隨后通過引入惰性氣體，將腔內(nèi)壓力調(diào)整到約20至800毫巴的范圍。在噴涂過程中，會(huì)利用泵系統(tǒng)來保持腔內(nèi)壓力的恒定。

一方面，這種工藝流程能夠使那些對(duì)氧或氮具有極強(qiáng)親和力的材料（如難熔金屬、MCrAIY合金）得到有效加工，同時(shí)盡可能避免氧化反應(yīng)的發(fā)生，從而確保材料具有較高的相穩(wěn)定性和純度。另一方面，這種工藝還能用于制備致密性極高、附著力強(qiáng)的涂層。這是因?yàn)樵诘蛪涵h(huán)境下，顆粒的運(yùn)動(dòng)速度會(huì)加快，而且在使用所謂的“轉(zhuǎn)移電弧”進(jìn)行噴涂時(shí)，還可以對(duì)工件進(jìn)行清洗、預(yù)熱甚至活化處理。為此，需要在等離子體噴嘴與工件之間連接另一個(gè)電壓源，通過改變電壓極性來實(shí)現(xiàn)清洗、預(yù)熱或增強(qiáng)能量輸出的效果。

此外，噴涂過程中的壓力可以降低到1毫巴以下。為此，必須使用尺寸足夠的泵裝置。當(dāng)電流達(dá)到約1000安培時(shí)，噴霧流會(huì)形成等離子體云，這種工藝被稱為“薄膜工藝”；不過，只有粒徑小于5微米的最細(xì)粉末顆粒才能通過這種工藝進(jìn)行處理。

這些應(yīng)用包括制備具有極高附著力且孔隙率極低的涂層（例如，用于涂覆燃?xì)廨啓C(jī)的葉片和導(dǎo)向葉片）。

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